x荧光多元素分析仪供应

x射线荧光光谱仪产品详细资料介绍 ，XRF光谱分析仪技术参数和性能配置由苏州实谱信息科技有限公司提供x荧光分析仪产品报价和资料。EDX8000H采用抽真空测试技术，能够很好的对轻元素进行分析和测试。 测量元素范围：从钠（Na）到铀（U）。
技术指标高灵敏度探测器（分辨率达149Ev），精密的放大电路，
   提高Cd、Pb元素的灵度。
   检出下限(Cd/Pd)：Cd/Cr/Hg/Br≦2ppm,Pb≦5ppm
   样品形状：任意大小，任意不规则形状
   样品类型：塑胶/金属/薄膜/粉末/液体
   小样品腔尺寸：300×300×100mm
   大样品腔尺寸：样品尺寸不受限制
   X射线管：靶材/Mo管电压/5～50kV管电流/1～1000μA
   照射直径：2、5、8mm
   探测器：Si(PIN)半导体高灵敏度探测器
   滤光片：八种新型滤光片自动选择
   样品定位：微动载物平台（选配）
   样品观察：130万分辨率彩色CCD摄像机
   微区分析：X光聚焦微区分析系统（选配）软件
   定量分析：理论Alpha

快,1秒钟出结果
1、采用行业的速探测器技术——（SDD）分辨率低至125eV
优势：探测面积大（面积达25m㎡）、单位时间内接受信息多、计数率高分辨率好
对贵金属的探测效率更高，探测信噪比更强，检出限更低
2、采用行业的数字多道技术
优势：有效提高输出效率，实现**高计数率，保证采集有效计数率**过600KCPS
3、采用大功率X光管及的准直滤光系统
优势：使贵金属的激发效率更高
4、光闸系统
优势：样品更换*关闭高压，提高测试效率与测试精度

X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性，所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒度分布是否有变化，样品中是否存在不均匀的多孔状态等。样品制备过程由于经过多步骤操作，还必须防止样品的损失和沾污。

X射线荧光光谱法是一种现代仪器分析方法，通过X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品；受激发的样品中的每一种元素会发出特征X射线（二次X射线）——这种特征X射线具有特定的能量和波长特性（莫塞莱定律），这些放射出来的二次X射线的能量及数量被探测系统测量，通过配套软件将这些射线信号转化为样品中各种组分元素的具体含量。
一体化真空系统
具有低震动、低噪音、自保护及抽速快等优良性能的真空泵系统；
几何抽速：60 L/min（50Hz）
压力：6.7×10-2 Pa
数字多道分析器:                      
将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件；
道数MAX： 4096；
包含信号增强处理功能；
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