x射线荧光光谱仪产品详细资料介绍 ,XRF光谱分析仪技术参数和性能配置由苏州实谱信息科技有限公司提供x荧光分析仪产品报价和资料。EDX8000H采用抽真空测试技术,能够很好的对轻元素进行分析和测试。 测量元素范围:从钠(Na)到铀(U)。
目前有很多方法可以实现X射线荧光光谱分析,因此,为了避免混淆,我们以能量色散X射线荧光光谱分析技术(EDXRF)为例,专注于XRF的细节部分。X射线荧光光谱仪主要包括组成一条信号链的子系统:1、X射线管;2、X射线探测器;3、多通道分析器;4、计算机。如上所述,X射线管也即是产生用于激发检测样品的X射线的地方。X射线管具有两种不同类型的X射线源:放射型和高压型。放射型X射线源通常较为简便、体积较小,成本较低;但是,这种放射源不能被关闭,并且会对环境、使用者等造成一定的危害,因此,对于这种类型的X射线源的使用需要进行注册登记,同时对其运输和处理都具有一定的限制,此外,人们还需要对这种放射源进行定期测试。另一方面,因为高压X射线源不含有污染,并且能够被“关闭”,因此对于这类X射线源的使用则没有那么多的限制。但是,高压X射线源需要用到高压电源以产生并释放出所需的X射线。
X射线荧光光谱仪(XRF)具有谱线简单、不破坏样品、操作简便、测定迅速等优点,广泛应用于地质、冶金、采矿、有色、海洋、生化、环境、石化、商检、电子、、考古、难融化物和建材工业等领域。但因为XRF操作简便的优点,使得现在一些“不求甚解”的使用者,只会使用,缺乏对于XRF的基础知识。你得懂XRF的原理么?你知道XRF的分类么?你知道各类XRF有什么优势么?
下面为大家一一解答:
XRF的原理是什么?
X射线荧光(XRF),顾名思义,利用了X射线和荧光技术,当原级X射线照射在待测样品上,产生的次级X射线叫X射线荧光,通过分析荧光的波长和能量对物质进行成分和化学形态的分析。XRF理论上可以测定元素周期表中所有的元素,但是在实际应用中,一般有效的元素测量范围为从铍(Be)到铀(U)的90余种元素。
XRF的分类有哪些?
XRF根据原理不同主要分为两类:波长色散型(WD-XRF)和能量色散型(ED-XRF),其根本区别在于检测方法的不同:
波长色散型X射线荧光光谱仪(WD-XRF),简称为波散型XRF,其原理是将X射线荧光通过晶体或人工拟晶体将不同能量的谱线分开,然后进行检测。通过谱线的波长进行定性分析,通过能量的强度进行定量分析。
波散型XRF
能量色散型X射线荧光光谱仪(ED-XRF),简称能散型XRF,没有复杂的分光系统,X射线荧光直接进入探测器,再经放大器放大成形后进入多道脉冲幅度分析器,将不同能量的脉冲分开并处理,就可以对能量范围很宽的X射线谱同时进行能量分辨(定性分析)和定量测定。
X荧光光谱仪进行定量分析的依据是元素的荧光X射线强度I1与试样中该元素的含量Wi成正比:Ii=IsWi 式中,Is为Wi=时,该元素的荧光X射线的强度。根据上式,可以采用标准曲线法,增量法,内标法等进行定量分析。
上述这些方法都要使标准样品的组成与试样的组成尽可能相同或相似,否则试样的基体效应或共存元素的影响,会给测定结果造成很大的偏差。所谓基体效应是指样品的基本化学组成和物理化学状态的变化对X射线荧光强度所成的影响。化学组成的变化,会影响样品对一次X射线和X射线荧光的吸收,也会改变荧光增强效应。
例如,在测定不锈钢中Fe和Ni等元素时,由于一次X射线的激发会产生NiKα荧光X射线,NiKα在样品中可能被Fe吸收,使Fe激发产生FeKα,测定Ni时,因为Fe的吸收效应使结果偏低,测定Fe时,由于荧光增强效应使结果偏高。但是,配置相同的基体又几乎是不可能的。为克服这个问题,目前X荧光光谱仪定量方法一般采用基本参数法。该办法是在考虑各元素之间的吸收和增强效应的基础上,用标样或纯物质计算出元素荧光X射线理论强度,并测其荧光X射线的强度。将实测强度与理论强度比较,求出该元素的灵敏度系数,测未知样品时,先测定试样的荧光X射线强度,根据实测强度和灵敏度系数设定初始浓度值,再由该浓度值计算理论强度。将测定强度与理论强度比较,使两者达到某一预定精度,否则要再次修正,该法要测定和计算试样中所有的元素,并且要考虑这些元素间相互干扰效应,计算十分复杂。 因此,必须依靠计算机进行计算。X荧光光谱仪的定量分析和定性分析
不同元素的荧光X射线具有各自的特定波长,因此根据荧光X射线的波长可以确定元素的组成。如果是波长色散型光谱仪,对于一定晶面间距的晶体,由检测器转动的2θ角可以求出X射线的波长λ,从而确定元素成分。
事实上,X荧光光谱仪在定性分析时,可以靠计算机自动识别谱线,给出定性结果。但是如果元素含量过低或存在元素间的谱线干扰时,仍需人工鉴别。先识别出X射线管靶材的特征X射线和强峰的伴随线,然后根据2θ角标注剩斜谱线。在分析未知谱线时,要同时考虑到样品的来源,性质等因素,以便综合判断。
X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法,任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性,所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法,激发只发生在试样的浅表面,必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外,样品的平均粒度和粒度分布是否有变化,样品中是否存在不均匀的多孔状态等。样品制备过程由于经过多步骤操作,还必须防止样品的损失和沾污。
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